Produktionseinführung
Die Reinheit der Tonerdeplatte beträgt mehr als 99 % und sie weist die Eigenschaften Hitzebeständigkeit, Säure- und Laugenkorrosionsbeständigkeit sowie hohe Härte auf. Anders als bei herkömmlichen kugelförmigen Schleifpartikeln ist die Unterseite der Tonerdeplatte flach und die Partikel passen sich beim Schleifen der Oberfläche des Werkstücks an, wodurch ein Gleitschleifeffekt entsteht, der verhindert, dass die scharfen Ecken der Partikel die Oberfläche des Werkstücks zerkratzen. Andererseits wird beim Schleifen der Tonerdeplatte der Schleifdruck gleichmäßig auf der Oberfläche der Partikel verteilt, die Partikel brechen nicht so leicht und die Verschleißfestigkeit wird verbessert, wodurch die Schleifleistung und die Oberflächengüte verbessert werden.
Chemische Zusammensetzung
| Chemisch | Garantierter Wert | Typischer Wert |
| Al2O3 | ≥99,0 % | 99,36 % |
| SiO2 | ＜0,2 % | 0,017 % |
| Fe2O3 | ＜0,1 % | 0,03 % |
| Na2O | ＜0,6 % | 0,35 % |
Physikalische Eigenschaften
| Material | α-Al2O3 |
| Farbe | Weiß |
| Spezifisches Gewicht | ≥3,9 g/cm3 |
| Mohshärte | 9,0 |
Verfügbare Größen
| Typ | D3(ähm) | D50 (eins) | D94（um） |
| CA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20,7-24,5 |
| CA40 | 39-44,6 | 27,7-31,7 | 18-20 |
| CA35 | 35,4-39,8 | 23,8-27,2 | 15-17 |
| CA30 | 28,1-32,3 | 19,2-22,3 | 13,4-15,6 |
| CA25 | 24,4-28,2 | 16,1-18,7 | 9,6-11,2 |
| CA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8,2-9,8 |
| CA15 | 14,8-17,2 | 9.4-11 | 5,8-6,8 |
| CA12 | 11,8-13,8 | 7,6-8,8 | 4,5-5,3 |
| CA09 | 8,9-10,5 | 5,9-6,9 | 3,3-3,9 |
| CA05 | 6,6-7,8 | 4.3-5.1 | 2,55-3,05 |
| CA03 | 4,8-5,6 | 2,8-3,4 | 1,5-2,1 |
Produktanwendung
1) Elektronikindustrie: Schleifen und Polieren von Halbleiter-Monokristall-Silizium-Wafer, Quarzquarzkristallen, Verbindungshalbleitern (kristallines Gallium, Nanophosphatierung).
2) Glasindustrie: Schleifen und Verarbeiten von Kristall, Quarzglas, Kinescope-Glasschalenbildschirmen, optischem Glas, Glassubstraten für Flüssigkristallanzeigen (LCD) und Quarzkristall.
3) Beschichtungsindustrie: Spezialbeschichtungen und Füllstoffe für das Plasmaspritzen.
4) Metall- und Keramikverarbeitungsindustrie: Präzisionskeramikwerkstoffe, gesinterte Keramikrohstoffe, hochwertige Hochtemperaturbeschichtungen usw.
